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由浙江大学现代光学仪器国家重点实验室和美国戴顿大学联合主办的纳米光子学国际会议(OSA Topical Conference on Nanophotonics),于2007年6月18日-21日在中国杭州浙江大学召开,大会学术负责人为浙江大学的刘旭教授和何赛灵教授。

到会的中外宾共122人,其中中国教授、宾客等共49人,外宾及教授73人。共收到中、外论文167篇,其中中国论文77篇,外国论文90篇。会议分三大主题,分别为Materials and devices、Nanofabrication methods以及Nanoscale imaging and characterization三大热点领域和研究方向。

纳米光子学是正在兴起的跨学科领域,在纳米数量级范围内处理光学问题。这次纳米光子学国际会议的目标,是将国际的科学家和研究者聚集起来,共同关注纳米光子学这一领域的最新发展和科研成果。会议为来自世界各国的学者提供了一个平台,用来交流在科研中遇到的问题、出现的变化、各自采用方法的优劣,共同讨论在纳米量级下测量光学反应的方法,以及如何改进所使用的设备。进一步说,这次会议主要讨论在处理光学材料、光纤,进行其设计、耦合、及对纳米光子应用过程中,出现的问题和挑战加以总结和研究。

纳米光子学的最新研究成果和动向是纳米光子晶体的植被技术,以及新型光子器件,特别是日本、欧洲以及韩国提出的光子学路线图技术,使一个值得关注的研究动向。

通过会议交流表明国内在纳米光子学领域有一定的工作基础,特别是浙江大学光电系在这一领域处于比较领先的地位;但参加会议的中国代表比较少,反映出国内在纳米光子学研究领域所做的工作不是很多,整体水平还不是很高。浙大光电系将继续在推进纳米光子学研究及其发展中发挥积极的作用


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